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  3. 制取无牙下颌印模时，远中的范围应当

制取无牙下颌印模时，远中的范围应当

admin2014-11-03  64
问题 制取无牙下颌印模时，远中的范围应当
选项 A、盖过磨牙后垫全部
B、暴露磨牙后垫
C、盖过磨牙后垫2／3
D、盖过磨牙后垫的1／3
E、盖过磨牙后垫的1／2～2／3
答案A
解析 取模时下颌托盘的高度和宽度与上颌的托盘相同，其长度应盖过磨牙后垫。全口义齿琏托后缘应盖过磨牙后垫的1／2或全部。
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