上颌后堤区的形成方法，不正确的是

admin2012-01-10 24

问题上颌后堤区的形成方法，不正确的是

选项 A、上颌后堤区的宽度在中间区域可达4～5mm
B、上颌后堤区位于前后颤动线之间
C、用蜡刀沿后缘线刻入模型深3～5mm
D、一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘
E、上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅

答案C

解析在石膏模型上，用雕刻刀在颤动线处切一深度1～1.5mm的切迹，沿此切迹向前约5mm的范围内，将石膏模型轻轻刮去一层，愈向前刮除得愈少，使与上腭的黏膜面移行。

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