上颌后堤区的形成方法,不正确的是

admin2011-12-02  33

问题 上颌后堤区的形成方法,不正确的是

选项 A、上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm
B、上颌后堤区位于前后颤动线之间
C、用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm
D、一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘
E、上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅

答案C

解析
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