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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
admin
2014-11-30
41
问题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
选项
A、不做处理.让患者将义齿戴走
B、腭杆组织面加自凝树脂重衬
C、腭杆组织面缓冲
D、取下腭杆
E、取下腭杆后.戴义齿取印模.在模型上重新加腭杆
答案
E
解析
腭杆离开腭黏膜2mm说明腭杆设计不合理,处理原则需重新制作。
转载请注明原文地址:https://kaotiyun.com/show/PhJN777K
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第四单元
口腔执业医师
执业医师
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