2. 外语
  3. Label the diagram below. Choose NO MORE THAN TWO WORDS from the passage for each answer. Write your answers in boxes 32-35 on yo

Label the diagram below. Choose NO MORE THAN TWO WORDS from the passage for each answer. Write your answers in boxes 32-35 on yo

admin2019-06-10  34
问题 Label the diagram below.
Choose NO MORE THAN TWO WORDS from the passage for each answer.
Write your answers in boxes 32-35 on your answer sheet.

选项
答案ultraviolet/UV
解析 题目标题是Immersion Lithography Etching，考生容易因此只在主要介绍这一技术的第七到第十段寻找答案，但该部分并没详述其原理。从文章整体可知，该技术是lithographic etching技术的优化，且文章第十段提到，浸没式光刻虽是非常新的技术，但不会从根本上改变芯片生产的工序(without fundamentally changing the microchip production processes)，故图中的一些信息还应从介绍lithographic etching技术的第四段寻找。
转载请注明原文地址:https://kaotiyun.com/show/ZKNO777K
本试题收录于： 雅思阅读题库雅思（IELTS）分类
0

雅思阅读

雅思（IELTS）

相关试题推荐
随机试题
最新回复(0)