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Kennedv第二类牙列缺损者,可摘局部义齿修复时主要缺隙处应取的印模是
Kennedv第二类牙列缺损者,可摘局部义齿修复时主要缺隙处应取的印模是
admin
2020-11-11
66
问题
Kennedv第二类牙列缺损者,可摘局部义齿修复时主要缺隙处应取的印模是
选项
A、功能性印模
B、一次印模
C、解剖式印模
D、无压力印模
E、静态印模
答案
A
解析
Kennedy第二类为单侧游离缺失。如果采用一次印模法取得在无压力状态下牙槽嵴黏膜的形态,由于牙槽嵴黏膜的弹性,义齿游离端基托在受到咬合力作用时易发生牙龈向下沉或翘动,并导致基牙受到扭力。因此,印模应取得游离端黏膜的功能时的形态,以减小义齿游离端基托的下沉,即取功能性印模,或称为压力印模。
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第一单元
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