Kennedv第二类牙列缺损者，可摘局部义齿修复时主要缺隙处应取的印模是

admin2020-11-11 50

问题 Kennedv第二类牙列缺损者，可摘局部义齿修复时主要缺隙处应取的印模是

选项 A、功能性印模
B、一次印模
C、解剖式印模
D、无压力印模
E、静态印模

答案A

解析 Kennedy第二类为单侧游离缺失。如果采用一次印模法取得在无压力状态下牙槽嵴黏膜的形态，由于牙槽嵴黏膜的弹性，义齿游离端基托在受到咬合力作用时易发生牙龈向下沉或翘动，并导致基牙受到扭力。因此，印模应取得游离端黏膜的功能时的形态，以减小义齿游离端基托的下沉，即取功能性印模，或称为压力印模。

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第一单元

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